摘要
快科技11月7日消息，11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子（SMEE）自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相，展示了我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。 该平台是一套国产标准化的前道光刻装备架构，适配I-line和KrF两类主流技术路线。其核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统均实现了全链条自主可控。 从性能数据来看，
快科技11月7日消息，11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子（SMEE）自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相，展示了我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。 该平台是一套国产标准化的前道光刻装备架构，适配I-line和KrF两类主流技术路线。其核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统均实现了全链条自主可控。 从性能数据来看，国产前道干式光刻机的成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度与生产效率正在紧密追赶国际标杆，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。 目前，多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%，形成了产业链安全可靠的核心优势。 资料显示，SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，业务覆盖核心装备的设计研发与生产制造，正持续为我国半导体产业升级提供支撑。 特别
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